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產(chǎn)品中心

電子氣體

四氟化碳

分子式:

CF4

分子量:

產(chǎn)品分類:

電子氣體

產(chǎn)品純度:

99.999%

包裝說明:

鋼瓶

充裝壓力:

閥門型號:

CAS:

75-73-0

充裝量:

產(chǎn)品描述

應用領域

產(chǎn)品優(yōu)勢

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紐瑞德特氣高純四氟化碳相關(guān)參數(shù)

產(chǎn)品名稱:四氟化碳四氟化碳氣體四氟甲烷全氟化碳
產(chǎn)品等級：分析純
產(chǎn)品純度：99.999%
包裝規(guī)格：40L
英文名稱:carbon tetrafluoride
英文別名:Tetrafluoromethane
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式:CF4
分子量:88
物化性質(zhì):- 熔點:-184℃

高純四氟化碳充裝標準

序號	名稱	化學式	純度(%)	壓力(Mpa)	充裝量(m3/kg)	閥門\|螺紋出口	鋼瓶容積(L)	鋼瓶尺寸(cm)	鋼瓶皮重(kg)
1	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	28公斤	PX-32\|G5/8	40	29×145	50
2	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	30公斤	CGA580	44	29×145	53
3	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	5公斤	PX-32\|G5/8	8	22×70	10

四氟化碳合成方法

1.由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應，或四氯化碳與氟化銀反應，或四氯化碳與氟化氫反應，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。

2.預先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質(zhì)硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾合金反應管中，向反應管內(nèi)通入氟氣，氟氣先和單質(zhì)硅反應，反應放熱后，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續(xù)進行，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到最終產(chǎn)品。

3.以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中，緩緩通入高濃氟氣，并通過加熱器加熱、供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。

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應用領域

四氟化碳產(chǎn)品用途

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。

1. 可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

2. 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、
泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。

3. 由于化學穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。

4. 四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。